鹽霧試驗(yàn)是一種主要利用鹽霧試驗(yàn)設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來(lái)考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗(yàn)。那么關(guān)于鹽霧試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)有哪些呢？

　　1鹽霧試驗(yàn)的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)范圍
　　
　　本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了中性鹽霧（NSS），乙酸鹽霧（AASS）和銅加速乙酸鹽霧（CASS）試驗(yàn)使用的設(shè)備，試劑和方法。
　　
　　本標(biāo)準(zhǔn)也規(guī)定了評(píng)估試驗(yàn)箱環(huán)境腐蝕性的方法。
　　
　　本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定試樣尺寸，特殊產(chǎn)品的試驗(yàn)周期和結(jié)果解釋，這些內(nèi)容參見(jiàn)相應(yīng)的產(chǎn)品規(guī)范。
　　
　　本標(biāo)準(zhǔn)適用于評(píng)價(jià)金屬材料及覆蓋層的耐蝕性，被測(cè)試對(duì)象可以是具有*性或暫時(shí)性防蝕性能的，也可以是不具有*性或暫時(shí)性防蝕性能的。
　　
　　本標(biāo)準(zhǔn)的中性鹽霧試驗(yàn)適用于金屬及其合金、金屬覆蓋層、有機(jī)覆蓋層、陽(yáng)極氧化膜和轉(zhuǎn)化膜。乙酸鹽霧試驗(yàn)和銅加速乙酸鹽霧試驗(yàn)適用于銅+鎳+鉻或鎳+鉻裝飾性鍍層，也適用于鋁的陽(yáng)極氧化膜。
　　
　　2鹽霧試驗(yàn)的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)引用標(biāo)準(zhǔn)
　　
　　下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效，所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)版本的可能性。
　　
　　GB5213—85深沖壓用冷軋薄鋼板和鋼帶
　　
　　GB6461—86金屬覆蓋層對(duì)底材為陰極的覆蓋層腐蝕試驗(yàn)后的電鍍?cè)嚇拥脑u(píng)級(jí)
　　
　　（eqvISO4540：1980）
　　
　　GB12335—90金屬覆蓋層，對(duì)底材呈陽(yáng)極性的覆蓋層腐蝕試驗(yàn)后的試樣的評(píng)級(jí)
　　
　?。╡qvISO8403：1991）
　　
　　GB/T9798—1997金屬覆蓋層鎳電沉積層(eqvISO1458：1988）
　　
　　ISO6372-1：1989鎳和鎳合金—名詞術(shù)語(yǔ)和定義—*部分：材料
　　
　　3鹽霧試驗(yàn)的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)溶液
　　
　　3.1氯化鈉溶液配制
　　
　　本試驗(yàn)所用試劑采用化學(xué)純或化學(xué)純以上的試劑。將氯化鈉溶于電導(dǎo)率不超過(guò)20μS/cm的蒸餾水或去離子水中，其濃度為50g/L±5g/L。在25℃時(shí)，配制的溶液密度在l.0255～l.0400范圍內(nèi)。
　　
　　3.2調(diào)整pH
　　
　　根據(jù)收集的噴霧溶液的pH值調(diào)整鹽溶液到規(guī)定的pH值。
　　
　　3.2.1中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)）
　　
　　調(diào)整按3.1配制的鹽溶液的pH值，使其在6.5～7.2之間。pH值的測(cè)量可使用酸度計(jì)，作為日常檢測(cè)也可用測(cè)量精度為0.3的精密pH試紙。溶液的pH值可用鹽酸或氫氧化鈉調(diào)整。
　　
　　噴霧時(shí)溶液中二氧化碳損失可能導(dǎo)致pH值變化。應(yīng)采取相應(yīng)措施，例如，將溶液加熱到超過(guò)35℃，才送入儀器或由新的沸騰水配制溶液，以降低溶液中的二氧化碳含量，可避免pH值的變化。
　　
　　3.2.2乙酸鹽霧試驗(yàn)（AASS試驗(yàn)）
　　
　　在按3.1制備的鹽溶液中加入適量的冰乙酸，以保證鹽霧箱（見(jiàn)4.2）內(nèi)收集液的pH值為3.1～3.3如初配制的溶液pH值為3.0～3.1，則收集液的pH值一般在3.1～3.3范圍內(nèi)。pH值的測(cè)定用酸度計(jì)，作為日常檢測(cè)也可用測(cè)量精度為O.1的精密pH試紙。溶液的pH值可用冰乙酸或氫氧化鈉調(diào)整。
　　
　　3.2.3銅加速乙酸鹽霧試驗(yàn)（CASS試驗(yàn)）
　　
　　在按3.2制備的鹽溶液中，加入氯化銅（CuCl2·2H2O），其濃度為0.26g/L±0.02g/L（即0.205g/L±0.015g/L無(wú)水氯化銅）。溶液的pH值調(diào)整方法與3.2.2相同。
　　
　　3.3過(guò)濾
　　
　　為避免堵塞噴嘴，溶液在使用之前必須過(guò)濾。
　　
　　4鹽霧試驗(yàn)的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)設(shè)備
　　
　　4.1用于制作試驗(yàn)設(shè)備的材料必須抗鹽霧腐蝕和不影響試驗(yàn)結(jié)果。
　　
　　4.2鹽霧箱的容積不小于0.2m3，不小于0.4m3。箱頂部要避免試驗(yàn)時(shí)聚積的溶液滴落到試樣上。箱子的形狀和尺寸應(yīng)能使箱內(nèi)溶液的收集速度符合8.3規(guī)定。
　　
　　注1：鹽霧箱的設(shè)計(jì)簡(jiǎn)圖見(jiàn)附錄A（提示的附錄）。
　　
　　4.3加熱系統(tǒng)應(yīng)保持箱內(nèi)溫度達(dá)到8.1規(guī)定。溫度測(cè)量區(qū)距箱內(nèi)壁不小于100mm，并能從箱外讀數(shù)。
　　
　　4.4噴霧裝置包括下列部分：
　　
　　a）噴霧氣源：壓縮空氣應(yīng)通過(guò)過(guò)濾器，以除油凈化；然后進(jìn)入裝有蒸餾水的飽和塔濕化，其溫度應(yīng)高于鹽霧箱內(nèi)試驗(yàn)溫度。zui后通過(guò)調(diào)壓閥進(jìn)入噴霧器，壓力應(yīng)控制在7OkPa～17OkPa范圍內(nèi)。
　　
　　B）噴霧系統(tǒng)：由噴霧器、鹽水槽和擋板組成。噴霧器可用一個(gè)或多個(gè)。可調(diào)式擋板能防止鹽霧直接噴射到試樣上。噴霧器和擋板放置的位置對(duì)鹽霧均勻分布有影響。
　　
　　C）鹽水槽：為保證均勻噴霧，應(yīng)有維持一定液位的裝置。調(diào)節(jié)噴霧壓力、飽和塔水的溫度和擋板位置使箱內(nèi)鹽霧沉降量和收集速度符合8.3規(guī)定。